HI2000H Präzisions-Druckaufnehmer für Medium Wasserstoff mit besonderer Performance

Allgemeine Informationen

Der HI2000H-Hochpräzisionsmessumformer wurde mit modernster Silicon-on-Sapphire-Sensortechnologie entwickelt und bietet ein Niveau an Genauigkeit und Leistung, das bisher unerreichbar oder unerschwinglich war. Für Drücke bis zu 1.500 bar wurde die Eignung des Materials für die Verwendung mit Wasserstoff durch Kompatibilitätstests auf der Grundlage von ISO 11114-2:2017 gemäß den europäischen Verordnungen EG 79/2009 und EU 406/2010 bestätigt.

Die einzigartige Silicon-on-Sapphire-Sensortechnologie bietet eine hervorragende Performance und eine ausgezeichnete Stabilität über einen weiten Temperaturbereich. Das fortschrittliche Sensordesign besteht aus einer piezoresistiven Silizium-Dehnungsmessstreifen-Schaltung, die epitaktisch auf die Oberfläche einer Saphir-Membran aufgewachsen wird, um eine einkristalline Struktur zu bilden. Das Saphir-Sensorelement wird dann molekular mit einer Submembran aus einer Titanlegierung verbunden. Dadurch kann der Sensor höheren Überdrücken standhalten und bietet eine hervorragende Korrosionsbeständigkeit. Der Sensor weist praktisch keine Hysterese und eine ausgezeichnete Langzeitstabilität auf. Dank der besonderen Isolationseigenschaften des Saphirsubstrats kann der Sensor über einen sehr weiten Temperaturbereich ohne Leistungseinbußen betrieben werden. Eine TEDS-Version (Transducer Electronic Data Sheet) ist verfügbar.

Zu den Anwendungen gehören Luft- und Raumfahrt, Labor- und Testanwendungen, Öl- und Gasüberwachungsgeräte (down-hole) sowie Offshore. Erhältlich in Druckbereichen von 0-500 mbar bis 0-1.500 bar und mit elektrischen Ausgängen von 10 mV/V, 0-5 dc und 0-10 Vdc. Eine optionale ATEX- und IECEx-zugelassene Version dieses Produkts ist für den Explosionsschutz für brennbare Gase (Zone 0), Stäube (Zone 20) und Bergbaubereiche (Gruppe I MI) erhältlich.

Eigenschaften

• Kompatibel毛穴Einsatz wasserstoffbasiertenAnwendungen
• Hohe Genauigkeit und Leistung
• Geprüft nach ISO 11114-2:2017 gemäß EC79/2009 und EU406/2010
• Silicon-on-Sapphire-Sensortechnologie
• Druckbereiche bis zu 1.500 bar
• Spezialisierter Sensor aus Titanlegierung für hervorragende chemische Verträglichkeit
• Hohe thermische Stabilität über einen weiten Betriebstemperaturbereich
• ATEX/IECEx-Option verfügbar (einschließlich M1 für Bergbauanwendungen) für mV-Version
• TEDS-Version verfügbar